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为什么真空电镀质量会缺陷?
发布日期:2018-11-26 07:46:35 作者:石岩大华塑胶制品厂 浏览次数:0

为什么真空电镀质量会缺陷?

为什么真空电镀质量会缺陷?

真空镀膜厂镀膜过程中靶材的选择在文献中,发现不导电真空镀膜中常用的靶材锡极易氧化,使得产品镀膜表面偏黄,通过调配镀膜靶材银和锢,使银和锢的质量配比为4,3,体积配比约为1:1,并结合合理设置镀膜工艺参数,解决了这一技术难题。

真空电镀过程中真空度的控制真空环境是镀膜过程的必要条件,它可以保证蒸发沉积过程的发生,同时也保证镀膜在镀膜过程中不被空气中气体分子氧化提出可通过增设真空泵和冷阱来提高抽吸速率,保持稳定的真空环境,从而有效地减少不导电真空镀膜过程中金属镀层的杂质,显著提高镀层外观质量另外,在文献中,作者发明了一种自吸气真空镀膜方法作者通过在基板和溅射靶材之间设置一个吸气罩,在镀膜前预先沉积一层薄膜,并利用该层薄膜的自吸气作用达到使气压迅速降低的目的,该法既能缩短抽真空时间,又能提高真空度,减少残留气体中活性气体的成分。

真空镀膜厂面漆的喷涂控制涂面漆的主要目的是保护不导电真空镀膜层,使镀膜层不会被氧化。施亮星等发现某型号手机外框真空镀膜表面出现黑点或黑点群的表面质量问题,并发现这些黑点或黑点群是由于喷涂面漆厚度不均使镀膜层氧化引起的,通过使用稳健性设计来优化面漆的喷涂过程参数,有效解决了手机外框镀膜表面黑点及黑点群问题。

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