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什么是真空电镀加工工艺?
发布日期:2019-01-04 08:11:58 作者:石岩大华塑胶制品厂 浏览次数:0

什么是真空电镀加工工艺?

什么是真空电镀加工工艺?

下面让小编来为大家详细的讲解一下真空电镀加工工艺,一起来了解一下吧!

真空镀膜

在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空电镀加工有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

蒸发镀膜

  

蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。

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